質(zhì)譜儀安捷倫Agilent 8900 串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是行業(yè)中成功且應用廣泛的串聯(lián)電感耦合等離子體質(zhì)譜儀。安捷倫Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置,適合從常規商業(yè)分析到高級研究和高純度材料分析的應用,其重新定義了 ICP-MS 性能,可提供可靠的分析結果。 安捷倫串聯(lián)四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 ICP-MS 8900 系統具有與安捷倫市場(chǎng)領(lǐng)先的單四極桿 ICP-MS 系統相同的基質(zhì)耐受性和穩定性,并與超高效的氦 (He) 碰撞模式相結合。但 8900 系統增加了串聯(lián)質(zhì)譜操作 (ICP-MS/MS),可對碰撞反應池 (CRC) 中的反應化學(xué)過(guò)程進(jìn)行精確的控制,使其成為強大、靈活的多元素分析儀。利用 8900 ICP-MS/MS 控制干擾,讓您的結果可靠無(wú)疑。
特性
串聯(lián)四極桿 ICP-MS 是一種用于元素分析的串聯(lián)質(zhì)譜儀 (MS/MS)。ICP-MS/MS 在碰撞/反應池 (CRC) 前增加了一個(gè)額外的四極桿質(zhì)量過(guò)濾器 (Q1),因此質(zhì)譜干擾問(wèn)題可以通過(guò)反應池氣體和氦氣 (He) 碰撞模式得到解決。為了在單位 (1 u) 質(zhì)量分辨率下實(shí)現高離子傳輸效率,ICP-MS/MS 的兩個(gè)四極桿都必須在高真空條件下運行。ICP-MS/MS 尤其適用于那些采用單四極桿 ICP-MS 無(wú)法實(shí)現成功分析的高級應用。
ICP-MS/MS 使用兩個(gè)四極桿質(zhì)量過(guò)濾器對離子進(jìn)行兩次過(guò)濾,Q1 位于 CRC 之前,Q2 位于 CRC 之后。雙重質(zhì)量過(guò)濾 (MS/MS) 能夠控制 CRC 中用于解決質(zhì)譜重疊干擾的反應過(guò)程。Q1 剔除目標分析物質(zhì)量以外的所有離子,因此只有分析物離子和相同質(zhì)量的干擾物能夠進(jìn)入 CRC。反應池氣體將分析物離子與重疊離子分離,且不存在單四極桿 ICP-MS 中可能發(fā)生的其他元素或同位素形成新的重疊產(chǎn)物離子的風(fēng)險。
ICP-MS/MS 適用于那些采用單四極桿 ICP-MS 無(wú)法實(shí)現理想分析的高要求應用。這些應用可能需要極低的檢測限,例如,檢測半導體制程化學(xué)品和高純度材料中的超痕量污染物或檢測極小的納米顆粒。ICP-MS/MS 可以利用 MS/MS 消除同量異位素干擾、雙電荷離子干擾、相鄰質(zhì)量數重疊干擾以及高強度的多原子干擾。這種能力使它可以分析低濃度的非常規分析物,如 Si、P、S、Cl,甚至是 F。
串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 的應用
ICP-MS/MS 為半導體和材料行業(yè)提供了更低的檢測限和更出色的干擾控制。領(lǐng)先制造商使用 8900 確保其高純度工藝化學(xué)品和材料的質(zhì)量。 超高靈敏度、超低背景以及極短的 0.1 ms 駐留時(shí)間可確保準確檢測出最小納米顆粒 (NP)。MS/MS 可控制 Si 和 Ti 的干擾,從而實(shí)現 SiO2 和 TiO2 NP 的低濃度分析。
MS/MS 控制碰撞/反應池中的化學(xué)反應,使研究人員能夠分離阻礙地球化學(xué)測量的同質(zhì)異位素重疊。8900 可分離 204Hg 與 204Pb、87Rb 與 87Sr 以及 176Lu 與 176Hf 等重疊,實(shí)現準確的地質(zhì)年代學(xué)同位素比值分析。 MS/MS 還可分離用于核研究和核退役測量的放射性核素的直接重疊,提高豐度靈敏度,分離峰拖尾重疊(如 238U 與 237Np)。
安捷倫 ICP-MS/MS 儀器可以分離先前難以分析的元素(如 Cl、P 和 S)的光譜重疊,徹底顛覆了生命科學(xué)研究。使研究人員能夠對蛋白質(zhì)和肽直接進(jìn)行基于 S 和 P 雜元素的單獨化合物定量分析。 新型測量的執行能力開(kāi)辟了藥物開(kāi)發(fā)、臨床研究和毒液組學(xué)等全新的研究領(lǐng)域。
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